实际运行中排泥量通常是根据MLSS值加上经验来控制的，在SVI相对稳定的情况下，也可用SV3来参考。问:本厂用的是卡罗塞尔氧化沟工艺。有时装置的出水氨氮比进水还高，进水TP2.5mg/L左右，出水只有.2mg/L右，曝气机3台满负荷运行。一直查不出什么原因，这是怎么回事?答:只能根据你提供的情况来初步分析，可能是污水含氮有机物较多，反应时间不够，有机氮的氨化速率大于氨氮的硝化速率，此外，也可能是磷不够，影响氨氮通过同化途径去除的效果。问:在运行过程中，氧化沟表面有一层厚厚的污泥堆积，粒径约1mm左右的污泥颗粒泛黄色，时常会造成二沉池大量飘泥，污泥返白，有絮体随出水一同流出，SV3迅速下降，处理效果丧失，堆积污泥减薄消除，周而复始，请问其成因和控制措施。答:说明污泥已失去活性，使ESS增加。有二种可能:一是污泥自身氧化；二是污泥中毒。从你所描述的现象看，前者的可能性大，可测定一下污泥耗氧速率，以便针对性采取措施。问::B法:段如何控制?是从一沉池以等同的流量给:段连续回流吗?SV3应控制在多少?控制在5%-1%可以吗?答::段的回流比应该大一些，但也不能使污泥在一沉池的停留时间太短，虽然:段主要是吸附为主，但也有一定的生物降解作用的，生物降解大多在沉淀池内进行，只有将吸附在污泥表面的有机物降解，才能恢复吸附能力。为进一步改善废水排放指标，按照“十二五”基础设施改造和节能减排固定资产投资项目的要求对电镀废水进行综合处理及回水利用。废水来源及其水质1.1废水来源及其分类电镀废水来源及其水质分析是废水处理工艺设计的基础，各企业因生产工艺、生产产品不同而致使废水各不相同，需分析。1.1前处理废水表面前处理由镀件除油和去除氧化膜两个主要工序组成。工件通常采用表面活性剂乳化方式除油，此部分废水化学需氧量（ChemicalOxygenDemand，简称COD）较高。其次，堆肥工艺参数也会影响VOCs的排放浓度。研究表明:在低含水率(4%)，高通气状况下柠檬烯、-蒎烯、、二的排放量约为.651-6，而低通气下柠檬烯、-蒎烯、、二的排放量约为.211-6。含水率对不同VOCs的排放量产生影响不同，M.Delgado-Rodrguez发现:低曝气情况下，在低水分含量(4%)时的产量为.81-6，高于在高水分含量(7%)下的产生量.21-6以及中水平水分含量(55%)下的产生量.451-6；而甲苯在高水分(7%)含量和低水分(4%)含量下产生的量均约为.91-6，高于中等水分(55%)含量下甲苯的产生量.21-6。2堆肥过程中VOCs的控制措施学者们对堆肥过程中VOCs的控制进行了大量的相关研究(见表2[17-22])，堆肥中VOCs的控制措施主要包括源头控制和末端治理两方面，源头控制主要通过调节物料组成降低VOCs，仅能够针对性地去除部分VOC，去除率在49.6%～1%。末端治理包括生物法、焚烧法、吸附法等，生物法中以生物滤池法对VOCs的去除效果最为理想。陆日明等研究发现:生物滤池对VOCs的去除率可达98.38%；焚烧法亦可去除堆肥中收集到的VOCs，去除率在99.99%以上；但生物滤池法和焚烧法仅针对高浓度的VOCs去除效果好，并不适用于低浓度VOCs的处理；活性炭吸附法对VOCs处理效果较好，苏建华等发现活性炭吸附法对甲苯的去除率达到84%，对乙酯的去除率达到76%，但仅适用于处理低浓度VOCs。近年来，半导体光催化实现还原氮气、制备氨气因其清洁而引起全世界的极大关注。近日，MaterialsHorizons期刊在线发表了由武汉理工大学李能教授与新加坡:*ST:R的Wee-JunOng博士（共同通讯作者）撰写的综述论文“PhotocatalyticFixationofNitrogento:mmonia:State-of-the-:rt:dvancementandFutureProspects”。